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NCS 반도체 Etching 공정핵심정리

강좌 정보
강의 수 총 13강

반도체 Etching 공정 전공핵심정리

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30일 PC+MOBILE NCS 반도체 Etching 공정핵심정리 200000 50% 100000

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차시 차시명 시간 샘플강의
1강 반도체 제조공정의 이해(1) 44분 17초
2강 반도체 제조공정의 이해(2) 42분 13초
3강 반도체 식각 공정의 이해(1) 30분 48초
4강 반도체 식각 공정의 이해(2) 32분 28초
5강 반도체 식각 공정에서의 중요 조건(1) 30분 10초
6강 반도체 식각 공정에서의 중요 조건(2) 28분 31초
7강 반도체 식각 공정에서의 필요 요소 34분 44초
8강 반도체 제조 공정에서의 플라즈마 29분 3초
9강 반도체 습식 식각 공정(1) 26분 57초
10강 반도체 습식 식각 공정(2) 27분 17초
11강 반도체 건식 식각 공정(1) 29분 49초
12강 반도체 건식 식각 공정(2) 27분 41초
13강 반도체 건식 식각 공정(3) 44분 42초
  • 교수명:
    %name% 교수
  • 약력 및 주요강의:
번호 만족도 제목 작성자 등록일
261 NCS 반도체 Etching 공정핵심정리 조** 2018-12-04
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