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[Lv.4 전문과정] 반도체 공정/설비 - 플라즈마 0

강사 여인석
강의구성 총 15차시 샘플강의
수강기간 30일
[Lv.4 전문과정] 반도체 공정/설비 - 플라즈마 70000원 0 % 70000
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강의소개

반도체 공정/설비 직무, 특히 Etch, Depo 지원자가 알아야 할 핵심강의! Plasma 특성부터 사용공정까지 plasma의 핵심개념을 정립하도록 도와드립니다!

  • 前 삼성전자/SK하이닉스 실무면접관 출신! 여인석 선생님이 알려주는 플라즈마의 모든 것!
    • 이온화율에 대해 알기 쉽게 설명해드립니다.
    • 다양한 플라즈마에 대해 비교하여 알려드립니다.
    • 플라즈마가 생성되는 과정 및 형성 등에 대해 알려드립니다.
  • 기체 분자 운동론과 진공에 대해 설명해드립니다.
    • 진공의 특성에 대해 예시 이미지와 함께 알기 쉽게 설명해드립니다.
    • 플라즈마가 형성되는 방법에 대해 알려드립니다.
    • 식각 공정에 대해 플로우 이미지와 함께 설명해드립니다.
  • 플라즈마 사용공정에 대해 설명해드립니다.
    • Wafer Process Flow를 토대로 플라즈마 사용공정에 대해 알려드립니다.
    • Sputter의 정의 및 원자 충돌 시 나타나는 현상에 대해 설명해드립니다.
    • Diffusion의 특성에 대해 설명해드립니다.

강사소개

여인석

前 삼성전자/SK하이닉스 실무면접관 출신

여인석강사


  • - 前 삼성전자/디스플레이 14년 경력 (실무면접관 경험 다수)
    - 前 SK하이닉스 7년 경력
    - 前 금성반도체 5년 경력

이런 분들을 위한 수업이에요

  • 반도체 공정/설비 직무에 대해 차별화된 경쟁력을 원하는 취업 준비생
  • 플라즈마의 기본 개념을 확실히 잡고싶은 취업 준비생

강의목차(15)

차시 차시명 시간
1차시 plasma 기초 (1) 29분 22초
2차시 plasma 기초 (2) 24분 58초
3차시 plasma 기초 (3) 27분 45초
4차시 plasma 기초 (4) 22분 25초
5차시 plasma 기초 (5) 29분 1초
6차시 기체 분자 운동론과 Vacuum (진공) (1) 27분 6초
7차시 기체 분자 운동론과 Vacuum (진공) (2) 30분 14초
8차시 plasma 형성 방법 - DC Plasma 25분 47초
9차시 plasma 형성 방법 - RF Plasma 25분 38초
10차시 Plasma 사용 공정 - Dry Etch (1) 28분 44초
11차시 Plasma 사용 공정 - Dry Etch (2) 29분 32초
12차시 Plasma 사용 공정 - Dry Etch (3) 27분 17초
13차시 Plasma 사용 공정 - PECVD 30분 6초
14차시 Plasma 사용 공정 - PVD (Sputtering) 32분 5초
15차시 Plasma 사용 공정 - Doping 28분 27초
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교재소개

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