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[Lv.4 전문과정] 반도체 8대 공정 - D&I (Diffusion & Ion Implantation) / 2

강사 조윤
강의구성 총 14차시
수강기간 30일
[Lv.4 전문과정] 반도체 8대 공정 - D&I (Diffusion & Ion Implantation) 100000원 0 % 100000
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강의소개

면접에서 차별화된 답변을 하기 위한 반도체 전공 핵심 과정!
반도체 8대 공정 중 Diffusion(확산 공정) & Ion Implantation(이온 주입 공정)
심화 학습으로 준비된 전문 인재임을 어필하세요!

  • 반도체 Diffusion & Ion Implantation 공정 특징은?
    • Diffusion 공정을 구성하는 기본 이론을 정리해드립니다.
    • 산화막의 사용 용도를 3가지 키워드로 정리해드립니다.
    • 산화막 수직 전기로의 핵심 요소와 열산화의 특징은?
    • Ion Implantaion의 동작원리와 구성요소를 키워드로 정리해드립니다.
    • SIMS의 3가지 핵심 키워드는?

강사소개

조윤

누적 온/오프라인 수강생 1,050명 추천!

조윤강사


  • - 前 삼성전자 반도체연구소 공정엔지니어 (DPT Module 세계 최초 개발, Contact Module 개발 등)
    - 前 SK하이닉스 반도체 엔지니어
    - 국비지원교육 반도체 강의 만족도 4.3점 (5점 만점)
    - 누적 온/오프라인 수강생 1,050명(2019.6 기준)

이런 분들을 위한 수업이에요

  • 이공계 반도체 산업 취업준비생
  • 삼성전자, SK하이닉스 등 반도체 산업에 취업을 준비하는 이공계 취업준비생
  • 삼성전자 공정개발 / SK하이닉스 공정통합 등 공정에 특화된 직무에 지원하시는 분
  • 외국계 기업에 취업을 준비하시는 분
  • 반도체 8대 공정 중 DNI 공정에 대해 제대로 배우고 싶으신 분
  • 반도체 DNI 공정의 장비와 과정을 자세히 알고 싶으신 분
  • 반도체 장비와 공정 과정에 대해 제대로 알고 싶으신 분
  • 반도체 DNI 공정의 기초이론부터 심화내용, 핵심기술까지 상세히 알고 싶으신 분
  • 전공면접에서 남들과 다른 심화된 모범답변을 하고 싶으신 분
  • 반도체는 알고 있으나, DNI 공정에 대해 제대로 알고 싶으신 분
  • 4년 간의 반도체 DNI 공정에 대해 한 방에 정리하고 싶으신 분
  • 반도체 8대 공정의 흐름을 간략하게 정리하고 싶으신 분

강의목차(14)

차시 차시명 시간
1차시 Prologue(서론) (1) 30분 15초
2차시 Prologue(서론) (2) 30분 41초
3차시 Prologue(서론) (3) 36분 42초
4차시 확산 장비 Setup하기 ? About SiO2 (1) 31분 27초
5차시 확산 장비 Setup하기 ? About SiO2 (2) 32분 13초
6차시 확산 장비 Setup하기 ? About SiO2 (3) 29분 17초
7차시 확산 장비 Setup하기 ? About SiO2 (4) 30분 44초
8차시 확산 장비 Setup하기 ? SiO2 Growth 30분 12초
9차시 확산 장비 유지, 개선하기 ? SiO2 Growth Equipment (1) 28분 14초
10차시 확산 장비 유지, 개선하기 ? SiO2 Growth Equipment (2) 30분 4초
11차시 이온 주입 장비 Setup하기 ? Ion Implantation (1) 29분 49초
12차시 이온 주입 장비 유지, 개선하기 ? Ion Implantation (2) 29분 13초
13차시 이온 주입 장비 Setup하기 ? Ion Implantation Application 31분 4초
14차시 이온 주입 장비 유지, 개선하기 ? Ion Implantation Application 33분 10초
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교재소개

2개의 수강 후기가 있어요

만족도 제목 작성자 등록일
반도체 공정에 대해 이해할 수 있었습니다 j******** 2019-03-04
디퓨전 공정의 명확한 정의와 그 이론적 내용에 대해 파악할 수 있었습니다
반도체 8대공정 - Diffusion & Ion Implantation 수강후기 g****** 2018-12-08
개인적으로 반도체 8대 공정중 중요한 부분이라 생각하는 DIffustion & Ion Implantation 에 대해서 알 수 있던 강의였습니다.   이 강의를 통해 반도체 소자에서 Doping하는 방법에 대해 확실하게 개념정리를 할 수 있었고,    열을 이용한 방법과 이온을 이용한 방법 간의 차이를 정리할 수 있었습니다.   실제 현직자출신에게 배우는 것이다 보니 실제 공정에서 많이 사용되는 것을 알 수 있다는 것이 이 강의의 핵심입니다.
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