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[Lv.4 전문과정] 반도체 8대 공정 - Cleaning 0

반도체 8대공정 - Cleaning

강사 조윤
강의구성 총 10차시
수강기간 30일
[Lv.4 전문과정] 반도체 8대 공정 - Cleaning 100000원 0 % 100000
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강의소개

삼성전자 반도체 공정엔지니어 출신 조윤 선생님의
반도체 설비기업 취업을 희망하는 당신을 위한
반도체 Cleaning 공정을 5시간 만에 핵심 정리!

  • 반도체 Cleaning 공정 특징은?
    • Cleaning Room을 이해하는데 반드시 알아야 할 핵심키워드 7가지를 공개합니다.
    • Cleaning 정의와 세정공정의 종류를 비교 분석해 드립니다.
    • 반도체 세정액의 종류는 7가지만 알면 된다?
    • 친수성 vs 소수성을 구별하는 것은 "이것"이다?
    • 세정설비를 비교,분석하여 각 설비의 핵심특징을 제시합니다.
    • Physical Cleaning을 정리하기 위해 반드시 알아야 할 이론은?

강사소개

조윤

누적 온/오프라인 수강생 1,050명 추천!

조윤강사


  • - 前 삼성전자 반도체연구소 공정엔지니어 (DPT Module 세계 최초 개발, Contact Module 개발 등)
    - 前 SK하이닉스 반도체 엔지니어
    - 국비지원교육 반도체 강의 만족도 4.3점 (5점 만점)
    - 누적 온/오프라인 수강생 1,050명(2019.6 기준)

이런 분들을 위한 수업이에요

  • 이공계 취업준비생
  • 삼성전자, SK하이닉스 등 반도체 산업에 취업을 준비하는 이공계 취업준비생
  • 외국계 기업에 취업을 준비하시는 분
  • 반도체 8대공정 중 Cleaning 공정에 대해 제대로 배우고 싶으신 분
  • 반도체 Cleaning 공정의 장비와 과정을 자세히 알고 싶으신 분
  • 반도체 장비와 공정과정에 대해 제대로 알고 싶으신 분
  • 반도체 Cleaning 공정의 기초이론부터 심화내용, 핵심기술까지 상세히 알고 싶으신 분
  • 전공면접에서 남들과 다른 심화된 모범답변을 하고 싶으신 분
  • 반도체는 알고 있으나, Cleaning 공정에 대해 제대로 알고 싶으신 분

강의목차(10)

차시 차시명 시간
1차시 Wafer Fabrication(1) 42분 42초
2차시 Wafer Fabrication(2) 35분 23초
3차시 Contamination 30분 20초
4차시 Contamination Removal 31분 24초
5차시 Introduction to Cleaning 29분 28초
6차시 Cleaning Chemical(세정액, SC1, Zeta Potential) 31분 33초
7차시 Cleaning Chemical(DHF, Contact Angle, 친수 / 소수성) 30분 22초
8차시 Cleaning Chemical(SPM, SiN Wet Etch) 29분 42초
9차시 Cleaning Equipment 28분 12초
10차시 Physical Cleaning Method 29분 38초
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교재소개

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