이 강의를, 듣고 나면 뭐가 달라질까요?
반도체 소자의 핵심 구동 원리 및 제조 공정에 대한 전반적인 이해를 확립하는 것을 목표로 합니다. 원자/물질 기초 이론부터 PN 다이오드, MOSFET 등 핵심 소자의 동작 특성을 학습합니다. 또한, CMOS 공정 흐름을 중심으로 Clean Room, Wafer 제조, 8대 핵심 공정을 체계적으로 다룹니다. 이를 통해 수강생은 반도체 산업 현장 직무 수행에 필요한 기초 지식과 전공정 로드맵을 확보할 수 있습니다.
반도체 물질 기초 이론: 원자 모형, 에너지 밴드 모델, 공유결합 및 도핑 등 반도체 현상을 이해하는 기초를 다룹니다.
핵심 반도체 소자 이해: PN Diode, MOSFET 및 DRAM/NAND Flash 등 주요 소자의 동작 특성을 분석합니다.
반도체 생산 환경 기초: Clean Room 규격 및 레이아웃, Wafer 제작 과정, Chamber 및 진공 공정 등 생산 환경을 익힙니다.
CMOS 전공정 흐름 개관: IC 제작 단계 및 CMOS Process Flow를 중심으로 8대 핵심 공정의 전체 흐름을 학습합니다.
핵심 8대 공정 역할: Photo, Etching, Deposition, DNI/Oxidation 등 각 공정의 목적과 기술 개요를 파악합니다.