이 강의를, 듣고 나면 뭐가 달라질까요?
본 강의는 반도체 제조의 핵심인 증착 공정의 기초부터 심화 단계까지 체계적으로 다룹니다. 수강생은 물리적(PVD) 및 화학적(CVD) 증착의 원리 차이를 명확히 이해하고, 진공 및 플라즈마 환경이 공정에 미치는 영향을 파악할 수 있습니다. 이를 통해 실제 양산 현장에서 발생하는 박막의 특성 이슈를 분석하고, 최신 다마신(Damascene) 공정 등 실무 기술을 습득하여 공정 엔지니어로서의 문제 해결 역량을 갖추는 것을 목표로 합니다.
박막 증착의 정의 : 웨이퍼 위에 전기적 특성을 갖는 얇은 막을 입히는 증착 공정의 기본 개념과 목적을 학습합니다.
물리/화학적 메커니즘 : 반응 원리에 따른 PVD와 CVD의 차이점 및 전구체(Precursor)를 이용한 막 형성 과정을 이해합니다.
공정 환경 및 장비 : 진공(Vacuum) 시스템의 필요성과 챔버 내 에너지 환경이 박막 품질에 미치는 영향을 분석합니다.
박막 특성 및 평가 : 단차 피복성(Step Coverage), 막질의 밀도, 증착 속도 등 주요 공정 변수와 관리 지표를 정리합니다.
최신 공정 응용 : 구리 배선을 위한 다마신 공정 절차와 차세대 소자 구현을 위한 특수 증착 기술의 흐름을 파악합니다.