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반도체 / 전공/직무 / VOD

NCS 반도체 공정 집중과정 - Photolithography

반도체 8대 공정 중 Photo 공정의 깊이 있는 이해를 통해 타 지원자 대비 차별화된 공정 역량을 얻을 수 있습니다.

후기 5.0(2)

수강생 3,000명

강사

수료증 발급 여부 NCS 수료증 발급

수강기간 30일

강의 난이도 LV.3 역량높이기

강의 시간 13시간 07분 39초

100,000원

권장 소비자 가격

100,000원

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강의소개

강사소개

커리큘럼

수강후기 (2)

추천강의

이 강의를, 듣고 나면 뭐가 달라질까요?

본 강의는 반도체 미세 공정의 핵심인 포토공정(Photolithography)의 원리와 최신 기술 트렌드를 심도 있게 파악하는 것을 목표로 합니다. 수강생은 반도체 소자의 고성능·저비용 구현을 위한 미세화 전략을 이해하고, 노광원의 변화(DUV에서 EUV까지)와 해상도 결정 요인, 그리고 PR 소재 및 현상 공정의 메커니즘을 습득하여 반도체 전공정 엔지니어로서 필요한 실무 지식과 문제 해결 역량을 확보할 수 있습니다.

이런 걸 배우게 됩니다

산업 트렌드(Trend) : 고성능·저비용 반도체 구현을 위한 소자 미세화의 필요성과 공정 비용 증가에 따른 기술적 과제를 분석합니다.

포토공정 원리(Concept) : 빛을 이용하여 마스크의 회로 패턴을 웨이퍼 위에 형성하는 노광 공정의 기본 개념과 중요성을 학습합니다.

해상도 및 광학(Physics) : 해상도(Resolution)와 초점 심도(DOF)의 정의, 그리고 이를 개선하기 위한 파장 단축 및 개구수(NA) 확대 원리를 다룹니다.

공정 프로세스(Step) : 감광액(PR) 코팅부터 노광, 현상(Develop), 그리고 공정 후 검사 및 정렬(Overlay)까지의 세부 단계를 상세히 설명합니다.

차세대 기술(Next-Gen) : 초미세 패턴 구현을 위한 EUV(극자외선) 노광 기술의 도입 배경과 다중 패터닝(Double/Quadruple) 기술의 특징을 소개합니다.

이런 분들께 특히 추천드려요

전공정 엔지니어 희망자(Engineer) : 반도체 제조의 가장 핵심인 포토공정 기술을 마스터하여 공정 설계 및 수율 관리 역량을 쌓고 싶은 지원자

R&D 연구원(Researcher) : 차세대 노광 기술인 EUV 및 신규 PR 소재 개발을 위해 광학적 원리와 공정 파라미터에 대한 심화 지식이 필요한 연구자

관련 전공 대학생(Student) : 전자공학, 신소재공학 등 전공 수업에서 배운 반도체 이론을 실제 산업 현장의 노광 기술과 연결해 학습하고 싶은 학생

장비·소재사 재직자(Specialist) : 노광 장비(Stepper/Scanner)나 포토마스크, PR 등 관련 부품 및 소재 산업에서 직무 전문성을 강화하고자 하는 전문가

이정도 배경지식이 있으면 더 수월해요

본 강의는 광학적 원리와 화학적 반응을 동시에 다루므로 대학 수준의 일반 물리학(특히 파동과 광학 파트)과 유기 화학에 대한 기초 지식이 있으면 좋습니다. 빛의 회절과 간섭 현상을 이해하고 있다면 해상도 개선 원리를 파악하기 훨씬 수월하며, 고분자 화합물의 용해성 변화 원리를 알고 있다면 PR의 노광 메커니즘을 더 깊이 있게 이해할 수 있습니다. 또한 반도체 8대 공정의 전체적인 흐름을 사전에 숙지하고 있다면 포토공정이 전·후 공정과 맺는 연관 관계를 파악하는 데 큰 도움이 됩니다.

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강의를 맡은 분은 이런 분이에요 👩‍🏫

커리큘럼 한 눈에보기

전체 15차시 (약 13시간 7분)

ChapterCh 1.

Photolithography

15차시 (13시간 7분)

1. 반도체 Trend와 Photolithography